Идеально подходящий для портретной съемки объектив FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R WR from — это защищенная от непогоды версия знаменитого объектива с фокусным расстоянием 85 мм. Известный своей чрезвычайно быстрой максимальной диафрагмой f/1,2, отличной изоляцией объекта и приятной цветопередачей, эта версия обновляет оптическую формулу, добавляя асферические элементы в группу фокусировки, значительно улучшенное расстояние фокусировки 1,6 дюйма и 11-лепестковую линзу. скругленная апертурная диафрагма для улучшения боке.

В оптической схеме используются как асферические элементы, так и элементы со сверхнизкой дисперсией, которые помогают уменьшить различные аберрации, цветовую окантовку и искажения для достижения высокой резкости и четкости. Покрытие Super EBC также используется для уменьшения бликов и ореолов для повышения контрастности и точности цветопередачи при ярком освещении и контровом свете. Скругленная диафрагма из одиннадцати лепестков обеспечивает плавные и приятные блики вне фокуса. В этом цельнометаллическом объективе используются девять резиновых уплотнений, которые защищают его от пыли и влаги, а также сохраняют полную функциональность при температурах до 14°F. Между тем, передний элемент с фтористым покрытием предназначен для защиты от воды, отпечатков пальцев и других следов, чтобы поддерживать высокое качество изображения, когда погода оборачивается против вас.Объектив с фиксированным портретным расстоянием предназначен для беззеркальных камер Fujifilm формата APS-C с байонетом X и обеспечивает фокусное расстояние, эквивалентное 85 мм.

Обеспечивает высокое разрешение, отсутствие аберраций, детализацию и цветопередачу. Объектив XF 56mm f/1.2 R WR идеально подходит для съемки портретов, свадеб и любых других творческих задач, требующих точного управления глубиной резкости. Он обеспечивает невероятное разрешение изображения даже при минимальном расстоянии фокусировки 1,6 дюйма, что делает его идеальным портретником. объектив, но также подходит для других приложений в настольной, товарной и коммерческой фотографии.

Его оптическая схема состоит из 13 элементов в восьми группах, включая один ED и два асферических элемента. Восемь элементов, используемых в фокусирующей группе, используют высокопреломляющую технологию кинообъективов FUJINON для минимизации хроматических, сферических и коматических аберраций. Это помогает свести к минимуму блики в светлых участках, повышая при этом качество изображения и детализацию объекта.

Особенно яркая максимальная диафрагма f/1,2 превосходна в условиях низкой освещенности и обеспечивает заметный контроль над глубиной резкости для использования методов выборочной фокусировки.

Покрытие Super EBC было нанесено на отдельные элементы, чтобы уменьшить блики и ореолы линз, улучшить контрастность и точность цветопередачи при работе в условиях сильного освещения.

Закругленная диафрагма из одиннадцати лепестков обеспечивает приятное качество изображения вне фокуса, что позволяет использовать методы выборочной фокусировки и малой глубины резкости.